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专利状态
功率半导体器件及其制造方法
有效
专利申请进度
申请
2021-12-16
申请公布
2022-04-22
授权
2024-02-23
预估到期
2041-12-16
专利基础信息
申请号
CN202111546517.7
申请日
2021-12-16
申请公布号
CN114388618A
申请公布日
2022-04-22
授权公布号
CN114388618B
授权公告日
2024-02-23
分类号
H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336
分类
基本电气元件;
申请人名称
杭州士兰微电子股份有限公司
申请人地址
浙江省杭州市黄姑山路4号
专利法律状态
2024-02-23
授权
状态信息
授权
2022-05-10
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):H01L29/78;申请日:20211216
2022-04-22
公布
状态信息
公布
摘要
公开了一种功率半导体器件及其制造方法,功率半导体器件包括:半导体衬底;位于半导体衬底上的外延层;位于外延层中的第一介质槽和第二介质槽,第一介质槽和第二介质槽内填充有第一介质层;位于第一介质槽内的栅氧化层、控制栅和屏蔽栅;位于第一介质槽和第二介质槽两侧的源区和漏区;其中,控制栅由外延层表面延伸至第一介质槽上部,屏蔽栅由外延层表面延伸至第一介质槽下部,栅氧化层将控制栅和屏蔽栅、控制栅和外延层隔开。本发明采用两个介质槽的结构使漂移区的形貌不再是直线,而形成折线(V型或凹型)形貌的漂移区,可以增加漂移区的有效长度,在同样的击穿电压下实现更小的特征导通电阻。
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