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专利状态

光谱透过率测量装置

有效

专利申请进度

申请

2019-09-20

授权

2020-05-12

预估到期

2029-09-20

专利基础信息

申请号	CN201930517294.9	申请日	2019-09-20
授权公布号	CN305773146S	授权公告日	2020-05-12
分类号	10-04(12)
分类
申请人名称	杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市滨江区滨康路669号

专利法律状态

2020-05-12

授权

状态信息

授权

摘要

1.本外观设计产品的名称：光谱透过率测量装置。2.本外观设计产品的用途：眼镜光谱透过率测量设备。用于分析测量眼镜镜片全光谱透过率、紫外透射比和蓝光透射比等参数。3.本外观设计产品的设计要点：在于光谱透过率测量装置的整体形状及其配件的形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。5.请求保护的外观设计包含色彩。

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