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专利状态

一种成像测量装置

有效

专利申请进度

申请

2019-05-28

申请公布

2020-12-01

授权

2023-04-14

预估到期

2039-05-28

专利基础信息

申请号	CN201910450888.1	申请日	2019-05-28
申请公布号	CN112014069A	申请公布日	2020-12-01
授权公布号	CN112014069B	授权公告日	2023-04-14
分类号	G01M11/02
分类	测量；测试;
申请人名称	杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市滨江区滨康路669号

专利法律状态

2023-04-14

授权

状态信息

授权
2020-12-01

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开一种成像测量装置，包括成像接收装置，其中，成像接收装置包括面阵探测器；包括测量光路，在测量光路中设有第一透镜；被测对象的出射光经第一透镜后入射至成像接收装置；包括第一反射镜，第一反射镜设于第一透镜和成像接收装置之间，可从测量光路中切入或切出；还包括校准光路，在校准光路中设有光源和第二透镜；光源的出射光经第二透镜和已切入测量光路中的第一反射镜后入射至成像接收装置。本发明中创新性的将测量光路和校准光路集成设计，可以自动化实现平场均匀性校准和颜色、亮度校准，较大程度地提升显示器亮度、色度均匀性的准确性，本发明装置系统非常适于显示产线的快速测试和筛选。

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