一种双向散射分布测量装置

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专利状态

一种双向散射分布测量装置

有效

专利申请进度

申请

2018-01-05

授权

2018-09-25

预估到期

2028-01-05

专利基础信息

申请号	CN201820014574.8	申请日	2018-01-05
授权公布号	CN207908363U	授权公告日	2018-09-25
分类号	G01N21/49;G01N21/01
分类	测量；测试;
申请人名称	杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市滨江区滨康路669号

专利法律状态

2018-09-25

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种双向散射分布测量装置，包括第一基座和第二基座，所述的第一基座上设置绕水平轴线转动的第一旋转臂，所述的第二基座上设置有绕垂直轴线旋转的第二旋转臂，所述的第二旋转臂还设置有绕垂直轴线旋转的样品旋转台和绕水平轴线旋转的第三旋转臂；所述第一旋转臂的一端设置入射光源并且所述的第三旋转臂一端设置有探测单元，或者所述第一旋转臂的一端设置探测单元并且所述的第三旋转臂一端设置有入射光源；在所述的第一基座上设置激光定位单元，所述的激光定位单元发出的激光穿过第一旋转臂，并且激光光轴与水平轴线同轴。该测量装置可自动完成全空间连续的双向散射分布测量，具有操作便捷、自动化程度高和测量准确度高等优点。

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