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专利状态
真空磁控溅射用旋转阴极靶
失效
专利申请进度
申请
2013-05-29
授权
2013-12-04
预估到期
2023-05-29
专利基础信息
申请号 CN201320302774.0 申请日 2013-05-29
授权公布号 CN203320120U 授权公告日 2013-12-04
分类号 C23C14/35
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 广州市尤特新材料有限公司
申请人地址 广东省广州市花都区花山镇华侨工业园
专利法律状态
  • 2023-06-16
    专利权的终止
    状态信息
    专利权有效期届满;IPC(主分类):C23C14/35;申请日:20130529;授权公告日:20131204
  • 2013-12-04
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型涉及一种真空磁控溅射用旋转阴极靶,包括管状的衬管和套设在衬管外壁上并随衬管旋转的靶材,所述衬管外壁上设有外螺纹,所述靶材内壁设有与外螺纹配合连接的内螺纹。本实用新型衬管外壁设有外螺纹,靶材内壁设有内螺纹,两者通过螺纹连接后,使得靶材的安装非常方便,而且当靶材将要耗竭而无法继续使用时,亦容易从衬管中分离以回收利用,未使用的靶材也就能旋入衬管中使用,使得衬管可以重复利用,大大节省了材料的损耗,节省了成本。本实用新型可应用于真空磁控溅射。