硅片清洗的调度方法及调度系统

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专利状态

硅片清洗的调度方法及调度系统

有效

专利申请进度

申请

2016-11-30

申请公布

2017-05-24

授权

2019-04-05

预估到期

2036-11-30

专利基础信息

申请号	CN201611092596.8	申请日	2016-11-30
申请公布号	CN106694443A	申请公布日	2017-05-24
授权公布号	CN106694443B	授权公告日	2019-04-05
分类号	B08B3/08;B08B3/02
分类	清洁;
申请人名称	北方华创科技集团股份有限公司
申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥东路1号

专利法律状态

2020-08-25

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):B08B3/08；变更事项:专利权人；变更前:北京七星华创电子股份有限公司；变更后:北方华创科技集团股份有限公司；变更事项:地址；变更前:100016 北京市朝阳区北京市朝阳区酒仙桥东路1号；变更后:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
2019-04-05

授权

状态信息

授权
2017-06-16

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):B08B3/08；申请日:20161130
2017-05-24

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种硅片清洗的调度方法，用于调度两个承载硅片的硅片载片盒在硅片清洗设备中同时进行硅片清洗工艺，包括当在非化学药液槽中的硅片载片盒完成工艺时，判断其下一工艺单元以及机械手是否均为空闲；若是，则判断如果机械手将该硅片载片盒取出并放入下一工艺单元，该硅片载片盒是否会与另一硅片载片盒同时处于不同的化学药液槽中或该另一硅片载片盒是否会无法在工艺完成后立即从化学药液槽中取出。当判断结果均为否时才将硅片载片盒取出并放入下一工艺单元。本发明还提供了一种调度系统，能够确保两个硅片载片盒不会同时处于化学药液槽中，且工艺完成后能及时从化学药液槽中取出。

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