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专利状态
一种结构光场调控方法及系统
有效
专利申请进度
申请
2020-11-25
申请公布
2021-02-26
授权
2022-05-24
预估到期
2040-11-25
专利基础信息
申请号 CN202011335654.1 申请日 2020-11-25
申请公布号 CN112415879A 申请公布日 2021-02-26
授权公布号 CN112415879B 授权公告日 2022-05-24
分类号 G03H1/04;G03H1/12
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦12楼
专利法律状态
  • 2022-05-24
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-02-26
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请适用于结构光场调控技术领域,提供一种结构光场调控方法及系统,通过生成与目标光场对应的第一灰度全息图;对所述第一灰度全息图进行二值化处理,得到第三灰度全息图;对所述第三灰度全息图进行误差补偿,得到第四灰度全息图;加载所述第四灰度全息图至数字微镜器件,根据所述第四灰度全息图像控制所述数字微镜器件中各微镜的开关状态,以调制入射至所述数字微镜器件的参考光束的光强度,得到与所述目标光场对应的目标光束,可以有效提高光场的精度、分辨率及光场调控的性能。