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专利状态
一种可调的深度测量装置及测量方法
有效
专利申请进度
申请
2019-12-28
申请公布
2020-04-17
授权
2022-04-26
预估到期
2039-12-28
专利基础信息
申请号 CN201911384703.8 申请日 2019-12-28
申请公布号 CN111025317A 申请公布日 2020-04-17
授权公布号 CN111025317B 授权公告日 2022-04-26
分类号 G01B11/22;G01S17/36;G01S17/894;G01S7/481
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2022-04-26
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-04-17
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种可调的深度测量装置,包括发射单元、接收单元、以及控制与处理电路;其中,发射单元包括有光源阵列和变焦投影透镜;光源阵列包括至少两个子光源阵列,用于发射斑点图案光束;变焦投影透镜接收光束并投射至目标区域,改变变焦投影透镜的焦距而改变光源投射光束的视场角;接收单元包括TOF图像传感器和变焦成像透镜;变焦成像透镜将反射光束投射到TOF图像传感器中被传感器采集后形成电信号,通过改变变焦成像透镜的焦距而改变TOF图像传感器采集反射光束的视场角;控制与处理电路根据电信号计算目标区域的深度图像。本发明通过调整焦距,拥有更加灵活多变的景深,从而实现更大范围的深度测量,并提高了测距的精度。