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专利状态
一种ITOF测距系统及计算被测物反射率的方法
有效
专利申请进度
申请
2021-07-07
申请公布
2021-09-17
授权
2022-10-25
预估到期
2041-07-07
专利基础信息
申请号 CN202110768213.9 申请日 2021-07-07
申请公布号 CN113406654A 申请公布日 2021-09-17
授权公布号 CN113406654B 授权公告日 2022-10-25
分类号 G01S17/08;G01S7/48;G01N21/55
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2022-10-25
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-09-17
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供一种ITOF测距系统及计算被测物反射率的方法,方法包括:发射器、采集器、以及处理电路;其中,所述发射器经配置以发射信号光束;所述采集器经配置以采集被测物反射回的光信号;所述处理电路与所述发射器以及所述采集器连接,用于获取被测物反射的光信号对应的电荷量,以根据所述电荷量确定采样信号数据,并根据所述采样信号数据计算被测物的反射率。本发明实施例通过电荷量确定采样信号数据,通过采样信号数据来计算被测物的反射率,提供了被测物除3D点云数据外的第四维信息,即反射率,实现了4D测量,提供更为全面的信息来表述被测物。