一种投射模组及深度测量系统

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专利状态

一种投射模组及深度测量系统

有效

专利申请进度

申请

2022-11-18

授权

2023-07-04

预估到期

2032-11-18

专利基础信息

申请号	CN202223079967.2	申请日	2022-11-18
授权公布号	CN219302863U	授权公告日	2023-07-04
分类号	G03B21/20;G02B27/42
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市南山区粤海街道滨海社区高新南十道63号高新区联合总部大厦12层

专利法律状态

2023-07-04

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供了一种投射模组及深度测量系统，投射模组包括：电路板；光学扩散元件；光源组，包括第一光源和第二光源，第一光源和第二光源间隔设置，第一光源发射的光束经过光学扩散元件调制形成具有第一视场角的第一出射光束；第二光源发射的光束经过光学扩散元件调制形成具有第二视场角的第二出射光束；其中，第一光源和第二光源位于光学扩散元件的同一侧，第一视场角大于第二视场角,且第二出射光束对应的探测视场位于第一出射光束对应的探测视场内。由于深度测量系统的投射模组具有独立设置的第一光源和第二光源，从而形成具有两个独立视场角3D相机，可以在满足近距离大视场角应用需求的同时，满足远距离高性能的探测需求。

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