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专利状态
一种屏下散斑投射模组、设计方法、显示设备及终端设备
有效
专利申请进度
申请
2021-02-02
申请公布
2021-06-15
授权
2023-04-07
预估到期
2041-02-02
专利基础信息
申请号 CN202110143177.7 申请日 2021-02-02
申请公布号 CN112965242A 申请公布日 2021-06-15
授权公布号 CN112965242B 授权公告日 2023-04-07
分类号 G02B27/00;G02B27/42;G02B27/48
分类 光学;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2023-04-07
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-06-15
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请适用于屏下成像技术领域,提供一种散斑投射模组、设计方法、显示设备及终端设备,根据散斑发射器发射并一次衍射的至少一个第一光束的波长、投射距离及光斑直径,获取使得光斑直径小于光斑距离的像素周期;根据波长、显示屏的像素周期尺寸、光斑大小及像素周期,获取投射在所述被投射物体上的所有光斑的均匀度;当均匀度不在预设均匀度范围内时,调整像素周期,直到均匀度在预设均匀度范围内时为止;当均匀度在预设均匀度范围内时,输出像素周期,能够在不降低显示屏的像素密度和分辨率的情况下,降低非散斑区域的背景噪声,提高信噪比,从而提升显示效果。