一种激光投射模组及深度相机

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专利状态

一种激光投射模组及深度相机

有效

专利申请进度

申请

2022-04-15

授权

2022-11-15

预估到期

2032-04-15

专利基础信息

申请号	CN202220888168.0	申请日	2022-04-15
授权公布号	CN217820854U	授权公告日	2022-11-15
分类号	G01S13/89;G01S7/481
分类	测量；测试;
申请人名称	奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市南山区粤海街道滨海社区高新南十道63号高新区联合总部大厦12层

专利法律状态

2022-11-15

授权

状态信息

授权

摘要

本申请提供了一种激光投射模组及深度相机。激光投射模组包括外壳、光源和光整形器件；光源和光整形器件均设置在外壳内，光源与光整形器件相互间隔，光整形器件位于光源的光路上；光源用于发射入射光束；光整形器件用于对入射光束进行整形以投射到像面形成相应的出射光场；其中，光整形器件采用不同的特征参数使得出射光场的视场角大小不同。深度相机包括上述激光投射模组。本申请可以通过调整光整形器件的特征参数的方式，实现对出射光束的视场角大小的调节；由此，如果我们想要获得出射光束的超广角视场，那么仅需对光整形器件的特征参数进行相应调整即可，从而能够很容易地使得出射光束达到超广角视场的效果。

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