一种激光投射模组及深度相机

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专利状态

一种激光投射模组及深度相机

有效

专利申请进度

申请

2023-01-13

授权

2023-07-04

预估到期

2033-01-13

专利基础信息

申请号	CN202320140666.1	申请日	2023-01-13
授权公布号	CN219302667U	授权公告日	2023-07-04
分类号	G01S7/484;G01S7/4911;G01S17/894;G01B11/22
分类	测量；测试;
申请人名称	奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市南山区粤海街道滨海社区高新南十道63号高新区联合总部大厦12层

专利法律状态

2023-07-04

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及一种激光投射模组及深度相机，其中，该激光投射模组包括基板、发射芯片、准直镜和光整形器，发射芯片设置于基板的一侧，准直镜和光整形器间隔设置于发射芯片的光轴上；发射芯片用于产生具有不同图案的多种入射光束；准直镜用于对各种入射光束进行准直处理；光整形器用于对准直处理后的入射光束进行整形并投射出相应的出射光场；发射芯片具有多个发射区域，多个发射区域采用不同组合发射方式产生多种入射光束，使激光投射模组投射出不同的出射光场。本实用新型的技术方案简化了制作工艺，有利于节省时间成本和制作成本。

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