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专利状态
一种消除屏下杂散光的方法、装置、屏下系统和存储介质
有效
专利申请进度
申请
2021-04-21
申请公布
2021-08-10
授权
2024-03-12
预估到期
2041-04-21
专利基础信息
申请号 CN202110428771.0 申请日 2021-04-21
申请公布号 CN113238250A 申请公布日 2021-08-10
授权公布号 CN113238250B 授权公告日 2024-03-12
分类号 G01S17/894;G01S7/481;G01S7/486
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2024-03-12
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-08-27
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G01S17/894;申请日:20210421
  • 2021-08-10
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请适用于光学领域,提供了一种消除屏下杂散光的方法、装置、屏下系统和存储介质。其中,该消除屏下杂散光的方法包括:获取位于显示屏内侧的信号接收端接收到的回波信号;所述回波信号为位于所述显示屏内侧的信号发射端向所述显示屏外侧的目标区域发射第一光信号后,所述信号接收端接收到的光信号;获取所述第一光信号经所述显示屏反射和/或散射后所述信号接收端接收到的杂散光信号;基于所述回波信号和所述杂散光信号,计算所述目标区域对所述第一光信号进行反射的目标光信号。本申请的实施例提供的方法能够消除屏下杂散光,以提高深度测量值的准确性。