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专利状态
探测装置以及扫描成像设备
有效
专利申请进度
申请
2017-10-25
申请公布
2018-03-16
授权
2024-01-26
预估到期
2037-10-25
专利基础信息
申请号
CN201711006506.3
申请日
2017-10-25
申请公布号
CN107807404A
申请公布日
2018-03-16
授权公布号
CN107807404B
授权公告日
2024-01-26
分类号
G01V8/20
分类
测量;测试;
申请人名称
同方威视技术股份有限公司
申请人地址
北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
专利法律状态
2024-01-26
授权
状态信息
授权
2018-04-10
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G01V8/20;申请日:20171025
2018-03-16
公布
状态信息
公布
摘要
本发明涉及一种探测装置以及扫描成像设备。探测装置包括:环形底座以及设置于环形底座内侧的多个探测器,多个探测器沿环形底座的周向分布;其中,环形底座具有沿自身轴向间隔设置的第一环部以及第二环部,第一环部和第二环部均朝向环形底座的轴线延伸;每个探测器通过周向定位部件与第一环部连接定位,周向定位部件能够限制对应的探测器沿环形底座的周向移动,每个探测器通过连接部件与第二环部连接固定。本发明的探测装置中包括的探测器能够自定位至环形底座,不需要外部工具辅助定位,从而能够使得探测器与环形底座组装过程操作简单快捷,省时省力。
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