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专利状态

安全检查系统及方法

有效

专利申请进度

申请

2020-09-11

申请公布

2022-03-11

授权

2023-10-13

预估到期

2040-09-11

专利基础信息

申请号	CN202010953726.2	申请日	2020-09-11
申请公布号	CN114167506A	申请公布日	2022-03-11
授权公布号	CN114167506B	授权公告日	2023-10-13
分类号	G01V5/00
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2023-10-13

授权

状态信息

授权
2022-03-29

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01V5/00；申请日:20200911
2022-03-11

公布

状态信息

公布

摘要

本公开涉及一种安全检查系统及方法。安全检查系统包括：辐射成像装置，具有多个靶点，多个靶点分别被配置为实现对扫描范围的不同角度的扫描成像；传感器，被配置为对车辆的运动位置进行感测；和控制器，与辐射成像装置和传感器信号连接，被配置为在传感器感测到车辆运动到第一区域时，使第一数量的靶点发出射线束，并在车辆运动到第二区域时，使第二数量的靶点发出射线束，其中，第一区域包括从车辆进入扫描范围之前的预设距离的第一位置到车辆内人员越过扫描范围的第二位置的区域，第一数量为小于多个靶点的总数的自然数，第二区域包括从第二位置到车辆离开扫描范围预设距离的第三位置，第二数量为大于第一数量且不小于多个靶点的总数的正整数。

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