一种新型狭缝式光刻胶涂布喷头结构

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专利状态

一种新型狭缝式光刻胶涂布喷头结构

有效

专利申请进度

申请

2022-10-18

授权

2023-02-10

预估到期

2032-10-18

专利基础信息

申请号	CN202222736294.7	申请日	2022-10-18
授权公布号	CN218460006U	授权公告日	2023-02-10
分类号	B05C5/02;B05C11/10;B05B15/55
分类	一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
申请人名称	华映科技（集团）股份有限公司
申请人地址	福建省福州市马尾区儒江西路6号

专利法律状态

2023-02-10

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及一种新型狭缝式光刻胶涂布喷头结构，属于光刻胶涂布机用喷头领域。包括相对设置的左喷头、右喷头，所述左喷头、右喷头下方之间的间隙为涂布狭缝，所述左喷头、右喷头之间设有金属垫片，所述左喷头内设有与光刻胶进液管连通的进液凹槽，所述右喷头上设有至少一个清洗管，且所述右喷头内设有与所述清洗管连通的清洗凹槽；所述进液凹槽与所述清洗凹槽对向设置，且开口均导通于所述涂布狭缝。本实用新型的优点：1）减少喷头的狭缝内产生光刻胶堆积、凝固、结块等情况，提高光刻胶涂布的稳定性和光刻胶成膜的均一性。2）降低拆卸喷头的频率，从而降低喷头损伤、金属垫片破损的风险。同时更大程度的减少人员、时间成本，增加经济效益。

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