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专利状态
一种集成电路的绘制方法、装置、存储介质及终端设备
有效
专利申请进度
申请
2020-11-19
申请公布
2022-05-20
授权
2023-03-24
预估到期
2040-11-19
专利基础信息
申请号 CN202011309090.4 申请日 2020-11-19
申请公布号 CN114519329A 申请公布日 2022-05-20
授权公布号 CN114519329B 授权公告日 2023-03-24
分类号 G06F30/392;G06F30/398;G06N3/048;G06N3/084
分类 计算;推算;计数;
申请人名称 TCL科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦
专利法律状态
  • 2023-03-24
    授权
    状态信息
    授权
  • 2022-05-20
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本申请公开了一种集成电路的绘制方法、装置、存储介质及终端设备,所述方法包括基于预设的期望光电特性,在预设的若干参考光电特性中选取所述期望光电特性对应的目标光电特性;确定所述目标光电特性对应的目标位置参量,并基于所述目标位置参量确定所述期望光电特性对应的集成电路,这样在获取到期望光电特性后,可以自动获取该期望光电特性对应的目标光电特性,并基于目标光电特性自动形成电路版图,从而可以提高电路版图的设计效率,进而可以提高集成电路的生产效率。