一种光刻衍射图像防伪薄膜及其制备方法

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专利状态

一种光刻衍射图像防伪薄膜及其制备方法

有效

专利申请进度

申请

2007-04-19

申请公布

2007-10-24

授权

2010-05-19

预估到期

2027-04-19

专利基础信息

申请号	CN200710039679.5	申请日	2007-04-19
申请公布号	CN101059654A	申请公布日	2007-10-24
授权公布号	CN101059654B	授权公告日	2010-05-19
分类号	G03F7/028;G03F7/32;G03F7/027;G03F7/00
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	上海天臣微纳米科技股份有限公司
申请人地址	上海市松江区莘砖公路518号3幢201室

专利法律状态

2020-11-20

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G03F7/028；变更事项:专利权人；变更前:上海天臣防伪技术股份有限公司；变更后:上海天臣微纳米科技股份有限公司；变更事项:地址；变更前:200433 上海市杨浦区国泰路127弄1号楼5楼；变更后:201601 上海市松江区莘砖公路518号3幢201室
2012-04-18

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G03F7/028；变更事项:专利权人；变更前:上海复旦天臣新技术有限公司；变更后:上海天臣防伪技术股份有限公司；变更事项:地址；变更前:200433 上海市杨浦区国泰路127弄1号楼5楼；变更后:200433 上海市杨浦区国泰路127弄1号楼5楼
2010-05-19

授权

状态信息

授权
2008-02-20

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效
2007-10-24

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种光刻衍射色图像防伪薄膜及其制备方法，包括相互复合的光刻变色防伪薄膜和反射全息感光薄膜，反射全息感光薄膜包括基膜和涂复在反射全息基膜一侧上的缓冲层、涂复在缓冲层另一侧上的感光聚合物涂料形成的感光聚合物涂层，光刻变色防伪薄膜，包括光刻基膜，涂复在光刻基膜一侧的由所说的光刻料B通过激光或紫外光曝光形成的光刻层。本发明的光刻衍射双变色图像防伪薄膜，正面观察，有清晰的红绿图像，在改变观察角度后，图像会由红变绿、绿变蓝。本发明的光刻衍射色图像防伪薄膜上图文，具有同时双变色的效果，是产品防伪，证件安全，文档防伪以及包装装饰的理想材料。

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