用于全息记录的感光薄膜及其制备方法

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专利状态

用于全息记录的感光薄膜及其制备方法

有效

专利申请进度

申请

2007-04-06

申请公布

2007-09-12

授权

2010-09-08

预估到期

2027-04-06

专利基础信息

申请号	CN200710039241.7	申请日	2007-04-06
申请公布号	CN101034257A	申请公布日	2007-09-12
授权公布号	CN101034257B	授权公告日	2010-09-08
分类号	G03F7/00;G03H1/02
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	上海天臣微纳米科技股份有限公司
申请人地址	上海市松江区莘砖公路518号3幢201室

专利法律状态

2020-11-24

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G03F7/00；变更事项:专利权人；变更前:上海天臣防伪技术股份有限公司；变更后:上海天臣微纳米科技股份有限公司；变更事项:地址；变更前:200433 上海市杨浦区国泰路127弄1号楼5楼；变更后:201601 上海市松江区莘砖公路518号3幢201室
2012-04-18

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G03F7/00；变更事项:专利权人；变更前:上海复旦天臣新技术有限公司；变更后:上海天臣防伪技术股份有限公司；变更事项:地址；变更前:200433 上海市杨浦区国泰路127弄1号楼5楼；变更后:200433 上海市杨浦区国泰路127弄1号楼5楼
2010-09-08

授权

状态信息

授权
2008-01-16

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效
2007-09-12

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种用于反射全息记录的感光薄膜及其制备方法，该反射全息薄膜包括基膜和涂复在基膜一侧上的缓冲层、涂复在缓冲层另一侧上的感光聚合物涂料形成的感光聚合物涂层，全息图像或双变色图文的干涉条纹记录于感光聚合物涂层。所说的薄膜，是一种利用两种不同折射率聚合物形成图像的感光材料，通过相干光束的干涉进入记录介质，激发单体进行自由基聚合，得到高衍射效率全息图像。本发明的全息感光薄膜，有良好的灵敏度和很高的反射效率，储存寿命长，全息图受环境的影响小，不同于感光材料常规的湿法处理方法，所得到的记录图像只需经过光固化和热增强处理，便可达到反射效率大于95％的反射全息图像或双变色图像，适宜于批量化生产。

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