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专利状态
复铁膜、采用该复铁膜的复膜铁
有效
专利申请进度
申请
2020-12-09
授权
2021-08-27
预估到期
2030-12-09
专利基础信息
申请号 CN202022984570.2 申请日 2020-12-09
授权公布号 CN214060384U 授权公告日 2021-08-27
分类号 C08J7/04;C08J7/043;C08J7/06;C08L67/02;C08L69/00;C08L33/12;C08L23/12;C08L23/06;C08L79/08;C08L77/00;B32B15/085;B32B15/09;B32B15/18;B32B27/32;B32B27/36;B32B33/00;B65D65/40
分类 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物;
申请人名称 上海天臣微纳米科技股份有限公司
申请人地址 上海市松江区莘砖公路518号3幢201室
专利法律状态
  • 2021-08-27
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开了一种复铁膜及其制备方法、采用该复铁膜的复膜铁,其中复铁膜包括依次层叠的印刷层、第一处理层、基膜层、第二处理层、信息层、镀膜层,所述信息层具有视觉防伪信息和光学定位标记,所述光学定位标记供所述印刷层与所述信息层对位。基膜层为复铁膜提供载体,信息层的视觉防伪信息能够提高复铁膜的防伪能力,同时,由于信息层具有光学定位标记,因此可以利用光学定位标记实现印刷层与信息层的精准定位,从而使得复铁膜能够具有精美的图案。镀膜层能够提升信息层的光学效果以及定位标记的亮度,以利于对光学定位标记的定位。第一处理层和第二处理层能够增加信息层和印刷层的牢度。