一种用于光学跟踪摄影测量系统的发光标定板

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专利状态

一种用于光学跟踪摄影测量系统的发光标定板

有效

专利申请进度

申请

2020-06-22

授权

2021-02-12

预估到期

2030-06-22

专利基础信息

申请号	CN202021185994.6	申请日	2020-06-22
授权公布号	CN212539143U	授权公告日	2021-02-12
分类号	G01C3/00;G01C3/02
分类	测量；测试;
申请人名称	武汉中观自动化科技有限公司
申请人地址	湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道308号（凤凰园中路交汇处）光谷动力节能环保产业园内6号楼5层15号

专利法律状态

2021-02-12

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及一种用于光学跟踪摄影测量系统的发光标定板，包括第一标定面、第二标定面和第三标定面；所述第一标定面上设置有多个透明标定孔；所述第二标定面和所述第三标定面相互平行，并且所述第二标定面和所述第三标定面均垂直于所述第一标定面，所述第二标定面和所述第三标定面朝向同一个方向；所述第二标定面和所述第三标定面上各设置有多个反光标定点；透明标定孔与反光标定点的布置呈立体状，透明标定孔的布置便于手持扫描仪拍摄，反光标定点的布置使光学跟踪器的相机能够拍到，兼顾到光学跟踪器与手持扫描仪的标定；并且透明标定孔与反光标定点保持一个稳固的空间位置关系，从而达到标定光学跟踪摄影测量系统的目的。

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