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专利状态
一种镜片镀膜系统中的伞形上样装置
有效
专利申请进度
申请
2016-06-02
授权
2016-11-23
预估到期
2026-06-02
专利基础信息
申请号 CN201620527593.1 申请日 2016-06-02
授权公布号 CN205710900U 授权公告日 2016-11-23
分类号 C23C14/50
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 成都晶华光电科技股份有限公司
申请人地址 四川省成都市龙泉驿区航天南路2号
专利法律状态
  • 2016-11-23
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型涉及一种镜片镀膜系统中的伞形上样装置,结构包括刚性支撑骨架以及呈伞形结构装配于刚性支撑骨架上的镜片安装面板;镜片安装面板设置为扇形结构;镜片安装面板上装配有设置为圆形结构的镜片安装单元,镜片安装单元上加工有镜片卡位槽;镜片安装单元可拆卸地装配于镜片安装面板上;镜片安装面板上设置有陶瓷把手。本实用新型改进待镀膜镜片的装配方式,避免待镀膜镜片在镀膜过程中发生镜片滑移或偏移,消除镀膜镜片表面划伤现象;改进待镀膜镜片在真空镀膜机中的固定方式,使待镀膜镜片的正反两面同时外露,镀膜过程中,无需进行镜片翻身,可一次完成镜片正反面同时镀膜,镀膜效率大大提升。