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专利状态

光电跟踪系统

有效

专利申请进度

申请

2018-04-25

申请公布

2018-11-13

授权

2021-12-14

预估到期

2038-04-25

专利基础信息

申请号	CN201810377512.8	申请日	2018-04-25
申请公布号	CN108803672A	申请公布日	2018-11-13
授权公布号	CN108803672B	授权公告日	2021-12-14
分类号	G05D3/12;G01B11/26
分类	控制；调节;
申请人名称	武汉高德红外股份有限公司
申请人地址	湖北省武汉市东湖开发区黄龙山南路6号

专利法律状态

2021-12-14

授权

状态信息

授权
2018-12-07

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G05D3/12；申请日:20180425
2018-11-13

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种光电跟踪系统，包括光学舱、电子舱和伺服稳定单元，伺服稳定单元包括伺服稳定平台和外框驱动装置，伺服稳定平台安设于光学舱内，外框驱动装置安设于电子舱内且通过传动机构与伺服稳定平台的外框架连接。将外框驱动装置后置于电子舱内，可以使得光学舱内结构设计空间更大，从而可以获得更大的框架角，有效提高光电跟踪系统的技术性能；可以使得光电跟踪系统前端光学设计空间大，对于成像系统，特别是红外成像光电系统，可以获得更小的光学系统F#，进而能够使光学系统获得更多的能量。尤其地，对于小型化多模复合光电系统，由于其直径小但光学舱空间需求大，上述外框驱动装置后置的结构可有效地优化光学方案设计。

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