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专利状态
一种P型晶体硅电池的制备方法
有效
专利申请进度
申请
2019-07-24
申请公布
2019-12-03
授权
2021-06-01
预估到期
2039-07-24
专利基础信息
申请号 CN201910671610.7 申请日 2019-07-24
申请公布号 CN110534614A 申请公布日 2019-12-03
授权公布号 CN110534614B 授权公告日 2021-06-01
分类号 H01L31/18;H01L31/068
分类 基本电气元件;
申请人名称 苏州腾晖光伏技术有限公司
申请人地址 江苏省苏州市常熟市沙家浜常昆工业园
专利法律状态
  • 2021-06-01
    授权
    状态信息
    授权
  • 2019-12-27
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):H01L31/18;申请日:20190724
  • 2019-12-03
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种P型晶体硅电池的制备方法,解决了P型晶体硅背面载流子选择性结构电池的漏电问题。其依次包括如下步骤:A、对制绒后的P型晶体硅片进行背面刻蚀或抛光;B、在P型晶体硅片的背面生长氧化物薄层;C、在氧化物薄层上沉积多晶硅层,并掺杂III族元素;D、将P型晶体硅片上的III族元素掺杂面向上,以漂浮的方式放入第一溶液中处理,所述第一溶液包括HF、HNO3、H2SO4、NaOH、KOH、TMAH、氨水中的至少一种;E、将经第一溶液处理后的P型晶体硅片的正面进行磷掺杂;F、将P型晶体硅片的磷掺杂面向上,以漂浮的方式放入第二溶液中处理,所述第二溶液包括HF、HNO3、H2SO4中的至少一种;G、将经第二溶液处理后的P型晶体硅片放入碱性溶液中处理。