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专利状态

红外焦平面阵列校正方法

有效

专利申请进度

申请

2014-11-24

申请公布

2015-03-11

授权

2017-06-06

预估到期

2034-11-24

专利基础信息

申请号	CN201410682450.3	申请日	2014-11-24
申请公布号	CN104406697A	申请公布日	2015-03-11
授权公布号	CN104406697B	授权公告日	2017-06-06
分类号	G01J5/00;H04N5/33
分类	测量；测试;
申请人名称	浙江大立科技股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市滨江区滨康路639号

专利法律状态

2017-06-06

授权

状态信息

授权
2015-04-08

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01J5/00；申请日:20141124
2015-03-11

公布

状态信息

公布

摘要

一种红外焦平面阵列校正方法，包括，1)根据不同环境温度下均匀图像的标准灰度值和温感值对探测器进行分区，获取每个区对应的区参数并保存；2)计算自动调零过程中所采集均匀图像的平均灰度值，判断平均灰度值与当前所使用的区参数中的标准灰度值的差值是否大于预设灰度值阈值，若是，则进行积分时间调整，并记录积分时间调整量及调整次数；3)判断累积积分时间调整量是否大于预设积分时间阈值，若是执行步骤4)，否则执行步骤2)；4)匹配当前环境温度下的当前平均灰度值和当前温感值与每个区中所保存的标准灰度值和温感值，匹配出最接近的区，调取最接近的区中保存的参数作为探测器当前使用的参数，从而在更宽的温度下输出高质量图像。

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