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专利状态
晶圆测试用真空探针台结构
有效
专利申请进度
申请
2018-04-23
授权
2018-12-11
预估到期
2028-04-23
专利基础信息
申请号
CN201820583682.7
申请日
2018-04-23
授权公布号
CN208224434U
授权公告日
2018-12-11
分类号
G01R31/28;G01R1/02
分类
测量;测试;
申请人名称
国巨电子(中国)有限公司
申请人地址
江苏省苏州市新区竹园路10号
专利法律状态
2018-12-11
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种晶圆测试用真空探针台结构,包括一载置平台,该载置平台包括一主体、主体上的真空环片,以及主体下的下探针装置,其特征在于:所述真空环片由金属部分和陶瓷部分拼接构成,所述陶瓷部分对应测量区,所述下探针装置包括固定座、探针及探针锁紧机构,所述陶瓷部分的下表面、对应每一所述探针位置设有一探头,该探头与所述陶瓷部分为一体结构。本实用新型通过对真空环片结构的改良,避免反复拆装操作,降低报修率及维护成本,有效提高了生产效率。
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