透镜调节装置及投影光学系统

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专利状态

透镜调节装置及投影光学系统

有效

专利申请进度

申请

2015-12-31

申请公布

2016-03-16

授权

2018-01-12

预估到期

2035-12-31

专利基础信息

申请号	CN201511030311.3	申请日	2015-12-31
申请公布号	CN105403975A	申请公布日	2016-03-16
授权公布号	CN105403975B	授权公告日	2018-01-12
分类号	G02B7/02;G03B21/14
分类	光学;
申请人名称	中国华录集团有限公司
申请人地址	辽宁省大连市高新园区黄浦路717号11层

专利法律状态

2018-01-12

授权

状态信息

授权
2016-04-13

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G02B 7/02申请日:20151231
2016-03-16

公布

状态信息

公开

摘要

本发明公开了一种透镜调节装置及投影光学系统，所述透镜调节装置包括：依次放置的第一调整基座、第二调整基座和第三调整基座；所述第一调整基座上具有第一中空部、设置在第一调整基座侧壁上的第一定位部件、以及设置在第一调整基座上部的第一定位基准孔；所述第二调整基座上具有第二中空部、设置在第二调整基座侧壁上的第一弯折部件、设置在第二调整基座上部的第二弯折部件、以及设置在第二调整基座上部的第二定位基准孔；所述第三调整基座上具有第三中空部、设置在第三调整基座上部的第三弯折部件、以及设置在第三调整基座上部的第二定位基准孔；本发明能够保持光学系统较好的光轴一致性。

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