光学膜及其形成方法_专利查询-品牌网

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专利状态

光学膜及其形成方法

有效

专利申请进度

申请

2008-04-03

申请公布

2009-10-07

授权

2012-05-30

预估到期

2028-04-03

专利基础信息

申请号	CN200810089845.7	申请日	2008-04-03
申请公布号	CN101551483A	申请公布日	2009-10-07
授权公布号	CN101551483B	授权公告日	2012-05-30
分类号	G02B5/30;G02B1/10;B32B7/12;B32B37/12;G02F1/1335N
分类	光学;
申请人名称	明基材料股份有限公司
申请人地址	中国台湾桃园县

专利法律状态

2012-05-30

授权

状态信息

授权
2012-04-11

著录事项变更

状态信息

著录事项变更；IPC(主分类):G02B5/30；变更事项:申请人；变更前:达信科技股份有限公司；变更后:明基材料股份有限公司；变更事项:地址；变更前:000000 中国台湾桃园县；变更后:000000 中国台湾桃园县
2009-12-02

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效
2009-10-07

公布

状态信息

公布

摘要

本发明披露一种光学膜及其形成方法。光学膜包括：偏光层；至少一层保护层位于偏光层上；以及粘着层，位于偏光层与保护层之间，其中粘着层包括聚乙烯醇树脂、脱乙酰壳多糖及聚乙烯醇树脂与脱乙酰壳多糖的交联聚合物。这种光学膜具有较佳的耐湿性且该粘着层不包括对环境造成污染的交联剂。

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