图案化相位延迟膜及其制造方法

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专利状态

图案化相位延迟膜及其制造方法

有效

专利申请进度

申请

2011-03-11

申请公布

2011-11-30

授权

2013-07-10

预估到期

2031-03-11

专利基础信息

申请号	CN201110059863.2	申请日	2011-03-11
申请公布号	CN102262257A	申请公布日	2011-11-30
授权公布号	CN102262257B	授权公告日	2013-07-10
分类号	G02B5/30
分类	光学;
申请人名称	明基材料股份有限公司
申请人地址	中国台湾桃园县

专利法律状态

2013-07-10

授权

状态信息

授权
2012-01-11

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/30申请日:20110311
2011-11-30

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供一种图案化相位延迟膜及其制造方法。一种具备微结构的图案化相位延迟膜，包括第一基材，相位延迟层位于该第一基材之上，以及第二基材贴合于该相位延迟层之上。该相位延迟层包括复数个具有液晶材料的第一相位延迟区以及复数个具有可固化树脂的第二相位延迟区，其中该第一相位延迟区以及该第二相位延迟区为格栅状带形结构且彼此间平行交错，该第一相位延迟区提供第一相位延迟，该第二相位延迟区提供第二相位延迟，且该第一相位延迟与该第二相位延迟之差为180°。

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