图案化相位延迟膜及其制造方法

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专利状态

图案化相位延迟膜及其制造方法

有效

专利申请进度

申请

2011-02-22

申请公布

2011-11-30

授权

2013-07-10

预估到期

2031-02-22

专利基础信息

申请号	CN201110042825.6	申请日	2011-02-22
申请公布号	CN102262255A	申请公布日	2011-11-30
授权公布号	CN102262255B	授权公告日	2013-07-10
分类号	G02B5/30;G02B27/26
分类	光学;
申请人名称	明基材料股份有限公司
申请人地址	中国台湾桃园县

专利法律状态

2013-07-10

授权

状态信息

授权
2012-01-11

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/30申请日:20110222
2011-11-30

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供一种图案化相位延迟膜及其制造方法，所述图案化相位延迟膜包括基材、图案化结构、位于该图案化结构之上的配向层及位于该配向层之上的液晶层。该图案化结构包括多个第一区域及多个第二区域，其中所述多个第一区域为格栅状浮雕结构，并与所述多个第二区域相互交错。该液晶层涂布于该配向层之上，且完全覆盖所述多个第一区域与所述多个第二区域所形成的图案化结构，并且该液晶层至所述多个第一区域表面的距离为特定高度。位于所述多个第一区域上方的液晶层提供第一相位延迟值及位于所述多个第二区域上方的液晶层提供第二相位延迟值，且该第一相位延迟值与该第二相位延迟值之差为180°。

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