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专利状态
一种优化原子层沉积的方法
有效
专利申请进度
申请
2019-12-20
申请公布
2021-06-22
授权
2022-05-06
预估到期
2039-12-20
专利基础信息
申请号 CN201911321990.8 申请日 2019-12-20
申请公布号 CN113005424A 申请公布日 2021-06-22
授权公布号 CN113005424B 授权公告日 2022-05-06
分类号 C23C16/02;C23C16/455;C23C16/40;H01L33/56
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 明基材料股份有限公司
申请人地址 中国台湾桃园市
专利法律状态
  • 2022-08-26
    著录事项变更
    状态信息
    著录事项变更;IPC(主分类):C23C16/02;变更事项:发明人;变更前:邓仕杰 黄如慧;变更后:邓士杰 黄如慧
  • 2022-05-06
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-07-09
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C23C16/02;申请日:20191220
  • 2021-06-22
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种优化原子层沉积的方法,包含下列步骤:(A)提供一纤维素纳米纤维;(B)以一酸化处理剂对纤维素纳米纤维进行一酸化处理;(C)以一疏水处理剂对经酸化处理的纤维素纳米纤维进行一疏水处理;(D)将经酸化及疏水处理的纤维素纳米纤维溶于一溶剂中,形成一纤维素纳米纤维溶液;(E)将纤维素纳米纤维溶液涂布于一硅胶薄膜上;(F)对涂布后的硅胶薄膜进行一加热处理,以在硅胶薄膜的表面上形成一纤维素纳米纤维层;以及(G)以原子层沉积法(Atomic Layer Deposition,ALD)在具有纤维素纳米纤维层的硅胶薄膜表面形成一无机镀膜层。