线光谱共聚焦高精度标定方法、系统、设备及存储介质

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专利状态

线光谱共聚焦高精度标定方法、系统、设备及存储介质

有效

专利申请进度

申请

2023-09-18

申请公布

2023-12-12

授权

2024-03-19

预估到期

2043-09-18

专利基础信息

申请号	CN202311202660.3	申请日	2023-09-18
申请公布号	CN117213367A	申请公布日	2023-12-12
授权公布号	CN117213367B	授权公告日	2024-03-19
分类号	G01B11/00
分类	测量；测试;
申请人名称	合肥埃科光电科技股份有限公司
申请人地址	安徽省合肥市高新区中安创谷二期J2栋3层

专利法律状态

2024-03-19

授权

状态信息

授权
2023-12-29

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01B11/00；申请日:20230918
2023-12-12

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种线光谱共聚焦高精度标定方法、系统、设备及存储介质，该方法包括以下步骤：采集标定物反馈的光谱中心点，拟合成合集曲线方程；取任一光谱中心点坐标，带入合集曲线方程，输出与实际坐标差值小于第一阈值且光谱中心点个数大于第二阈值的坐标集合，拟合成新曲线方程；选取包含光谱中心点个数最多的坐标集合对应的新曲线方程，根据该新曲线方程或特征点坐标与真实坐标的对应关系，计算线光谱共聚焦的标定参数。本发明通过对光谱分布图像中像素坐标的曲线方程优化，有效提高了曲线方程拟合的准确度；通过建立空间点与像素点之间的一一对应关系，完成像素点到空间点的转换，从而实现线光谱共焦系统的标定。

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