光轴校准方法、光轴校准装置和成像设备

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专利状态

光轴校准方法、光轴校准装置和成像设备

有效

专利申请进度

申请

2020-11-13

申请公布

2021-04-02

授权

2022-08-26

预估到期

2040-11-13

专利基础信息

申请号	CN202011268430.3	申请日	2020-11-13
申请公布号	CN112601071A	申请公布日	2021-04-02
授权公布号	CN112601071B	授权公告日	2022-08-26
分类号	H04N17/00
分类	电通信技术;
申请人名称	苏州华兴源创科技股份有限公司
申请人地址	江苏省苏州市苏州工业园区青丘巷8号

专利法律状态

2022-08-26

授权

状态信息

授权
2021-04-02

公布

状态信息

公布

摘要

本申请涉及一种光轴校准方法、光轴校准装置和成像设备。光轴校准方法用于对成像设备的光轴进行校准，包括：将光学校准仪器固定于成像设备的物侧，光学校准仪器上设有第一分划，且用于向成像设备发射平行光；控制成像设备的转盘转动，将转盘上的待调节滤光片调至成像光路中；将第一分划经过镜头和待调节滤光片而成像于成像设备的成像面；调整待调节滤光片与转盘间的倾斜角度，使得第一分划所成的像的中心与成像面上的第二分划的中心重合；将调整后的待调节滤光片固定于转盘。本申请能够有效提高成像设备的成像质量。

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