缺陷修复方法、缺陷校正算法的确定方法、装置

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专利状态

缺陷修复方法、缺陷校正算法的确定方法、装置

有效

专利申请进度

申请

2023-05-05

申请公布

2023-06-02

授权

2023-08-01

预估到期

2043-05-05

专利基础信息

申请号	CN202310495150.3	申请日	2023-05-05
申请公布号	CN116205824A	申请公布日	2023-06-02
授权公布号	CN116205824B	授权公告日	2023-08-01
分类号	G06T5/00;G09G3/3208;G06T7/00
分类	计算；推算；计数;
申请人名称	苏州华兴源创科技股份有限公司
申请人地址	江苏省苏州市苏州工业园区青丘巷8号

专利法律状态

2023-08-01

授权

状态信息

授权
2023-06-20

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G06T5/00；申请日:20230505
2023-06-02

公布

状态信息

公布

摘要

本公开涉及一种缺陷修复方法、缺陷校正算法的确定方法、装置。所述缺陷修复方法包括：确定目标屏体，所述目标屏体为显示模组未贴附膜层结构时的产品；获取缺陷校正算法，其中，所述缺陷校正算法是利用多组补偿产品的补偿算法确定的，所述补偿产品包括：屏体和与所述屏体相对应的显示模组；所述补偿算法包括：利用缺陷修复算法将所述屏体进行第一缺陷处理，得到第一补偿数据；利用所述缺陷修复算法对所述显示模组进行第二缺陷处理，得到第二补偿数据；利用所述第一补偿数据和所述第二补偿数据确定补偿算法；利用所述缺陷校正算法和所述缺陷修复算法对所述目标屏体进行缺陷修复。采用本方法能够在缺陷修复时无需增加成本、减少额外的处理时间。

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