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专利状态
一种选择性发射极太阳能电池及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2020-11-23
申请公布
2021-03-09
授权
2023-08-22
预估到期
2040-11-23
专利基础信息
申请号 CN202011323754.2 申请日 2020-11-23
申请公布号 CN112466967A 申请公布日 2021-03-09
授权公布号 CN112466967B 授权公告日 2023-08-22
分类号 H01L31/0224;H01L31/042;H01L31/18
分类 基本电气元件;
申请人名称 晶科能源股份有限公司
申请人地址 浙江省嘉兴市海宁市袁花镇工业功能区袁溪路陆曼司桥西
专利法律状态
  • 2023-08-22
    授权
    状态信息
    授权
  • 2023-07-21
    著录事项变更
    状态信息
    著录事项变更;IPC(主分类):H01L31/0224;变更事项:申请人;变更前:浙江晶科能源有限公司;变更后:浙江晶科能源有限公司;变更事项:地址;变更前:314416 浙江省嘉兴市海宁市袁花镇工业功能区袁溪路陆曼司桥西;变更后:314416 浙江省嘉兴市海宁市袁花镇工业功能区袁溪路陆曼司桥西;变更事项:申请人;变更前:晶科能源有限公司;变更后:晶科能源股份有限公司
  • 2021-03-26
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):H01L31/0224;申请日:20201123
  • 2021-03-09
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明实施例提供的选择性发射极太阳能电池的制备方法,包括:在半导体基片表面的第一区域以及第二区域形成具有若干凸起的绒面,其中,凸起在半导体基片厚度方向上的截面形状为梯形或类梯形形状;对凸起的至少部分区域进行扩散处理以形成第一掺杂层,以及形成仅覆盖第一区域的第一氧化层;利用第一氧化层为掩膜再次蚀刻半导体基片表面,以将位于第二区域的凸起蚀刻形成金字塔结构,并将第二区域上的第一掺杂层经蚀刻形成掺杂浓度小于第一掺杂层的第二掺杂层。此外,本发明实施例还提供一种选择性发射极太阳能电池。本发明实施例提供的选择性发射极太阳能电池及其制备方法,减小选择性发射极太阳能电池在应用时的复合损失。