抗开光温度冲击非线性光学频率变换实现方法

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专利状态

抗开光温度冲击非线性光学频率变换实现方法

有效

专利申请进度

申请

2011-09-21

申请公布

2012-02-15

授权

2013-06-19

预估到期

2031-09-21

专利基础信息

申请号	CN201110280940.7	申请日	2011-09-21
申请公布号	CN102354072A	申请公布日	2012-02-15
授权公布号	CN102354072B	授权公告日	2013-06-19
分类号	G02F1/35
分类	光学;
申请人名称	苏州天弘激光股份有限公司
申请人地址	江苏省苏州市工业园区跨塘分区瑞华路1号

专利法律状态

2013-06-19

授权

状态信息

授权
2012-03-28

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效IPC(主分类):G02F 1/35申请日:20110921
2012-02-15

公布

状态信息

公布

摘要

一种抗开光温度冲击非线性光学频率变换实现方法，涉及基频激光器(1)、光学晶体(2、3)和温控系统(7、8)，利用两套非线性光学频率变换装置，并分别将其温度设定为约高于和约低于最佳相位匹配温度。这样，当激光打开而使PID温度控制系统产生一定范围内的温度起伏时，两套系统内的晶体分别更偏离和更接近最佳相位匹配的温度，从而使总体转换效率维持恒定。此方法克服了当基频激光打开而引起温控系统温度起伏时，输出激光功率起伏的问题。是一种能克服非线性光学频率变换刚刚开打基频激光时，变频激光输出功率由于非线性光学晶体温度起伏而造成的激光输出功率起伏的抗开光温度冲击非线性光学频率变换实现方法。

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