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专利状态
耐电腐蚀的金属化膜
有效
专利申请进度
申请
2019-02-01
授权
2019-10-11
预估到期
2029-02-01
专利基础信息
申请号
CN201920179182.1
申请日
2019-02-01
授权公布号
CN209487320U
授权公告日
2019-10-11
分类号
H01G4/005;H01G4/18;H01G4/33
分类
基本电气元件;
申请人名称
安徽铜峰电子股份有限公司
申请人地址
安徽省铜陵市经济技术开发区翠湖三路西段399号
专利法律状态
2019-10-11
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了耐电腐蚀的金属化膜,它包括聚合物介质和位于聚合物介质之上的金属镀层,所述金属镀层包括稳定区c、渐变区b和加厚区a,所述加厚区a的一端与聚合物介质的一端齐边,所述加厚区a的另一端通过渐变区b与稳定区c过渡连接,所述稳定区c远离加厚区a的一端通过渐变区d与加厚区e连接,所述加厚区e与聚合物介质的另一端之间设有留边区f。本实用新型的有益效果是增加接近留边区的镀层电极厚度。根据电容器长期使用后靠近留边区电极腐蚀的宽度,将靠近留边区的加厚电极区即加厚区e宽度设为3‑7mm,即降低了靠近留边区的镀层氧化可能性,使靠近留边区的电极耐腐蚀,又保有了金属镀层较薄的稳定区,控制了自愈能量。
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