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专利状态
一种半导体废水处理方法及系统
有效
专利申请进度
申请
2023-03-06
申请公布
2023-06-23
授权
2023-12-05
预估到期
2043-03-06
专利基础信息
申请号 CN202310232291.6 申请日 2023-03-06
申请公布号 CN116282699A 申请公布日 2023-06-23
授权公布号 CN116282699B 授权公告日 2023-12-05
分类号 C02F9/00;C02F103/34N;C02F101/10N;C02F101/20N;C02F101/14N;C02F101/30N;C02F101/16N;C02F1/44N;C02F1/76N;C02F1/52N;C02F1/66N;C02F1/00N;C02F3/12N
分类 水、废水、污水或污泥的处理;
申请人名称 武汉天源环保股份有限公司
申请人地址 湖北省武汉市汉南区纱帽街薇湖西路392号
专利法律状态
  • 2023-12-05
    授权
    状态信息
    授权
  • 2023-07-11
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C02F9/00;申请日:20230306
  • 2023-06-23
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种半导体废水处理方法及系统。该半导体废水处理方法包括:分类收集:将半导体废水分为酸性废水、碱性废水、含氟废水、含砷废水和有机废水进行收集;分质预处理:中和酸性废水和碱性废水,去除含砷废水中的三价砷和单质磷,去除含氟废水中的氟离子;MBR膜处理:将分质预处理后的酸性废水、碱性废水、含砷废水、含氟废水和有机废水进入MBR膜生物反应器,初步去除废水中的污染物;RO分离净化:将经MBR膜生物反应器处理后的废水进入RO分离净化器,去除废水中残余的杂质,得到干净的回收水。本发明先将各种废水进行分质预处理,实现各类污染物的分级去除,再依次经MBR膜处理、RO分离净化处理,产水回用率达90%。