一种全背光真空吸盘定位系统

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专利状态

一种全背光真空吸盘定位系统

有效

专利申请进度

申请

2022-05-27

授权

2022-10-21

预估到期

2032-05-27

专利基础信息

申请号	CN202221292119.7	申请日	2022-05-27
授权公布号	CN217639930U	授权公告日	2022-10-21
分类号	G03F7/20
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	苏州天准科技股份有限公司
申请人地址	江苏省苏州市高新区科技城浔阳江路70号

专利法律状态

2022-10-21

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种全背光真空吸盘定位系统，包括对位成像系统、侧入式高均匀条形光源和吸盘玻璃平台，吸盘玻璃平台上设有PCB刻蚀工件，对位成像系统设于PCB刻蚀工件上方，PCB刻蚀工件上的靶孔位置与对位成像系统相适配，沿吸盘玻璃平台一侧壁设侧入式高均匀条形光源且二者同步移动，吸盘玻璃平台上表面设若干吸孔，吸盘玻璃平台下表面设油墨粒子。本实用新型中，利用白色油墨粒子的散射使背光效果更均匀，可有效提升表面高反的PCB靶孔成像质量，提高对位准确性；采用侧入式高均匀条形光源，不仅保证照明亮度，还减少吸盘玻璃平台的整体厚度，节约成本，可适配多种不同工件材料的靶孔定位。

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