一种光学检测站、清洗及瑕疵检测系统

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专利状态

一种光学检测站、清洗及瑕疵检测系统

有效

专利申请进度

申请

2022-12-05

申请公布

2023-03-07

授权

2023-07-04

预估到期

2042-12-05

专利基础信息

申请号	CN202211546650.7	申请日	2022-12-05
申请公布号	CN115753618A	申请公布日	2023-03-07
授权公布号	CN115753618B	授权公告日	2023-07-04
分类号	G01N21/01;G01N21/896
分类	测量；测试;
申请人名称	苏州天准科技股份有限公司
申请人地址	江苏省苏州市高新区科技城浔阳江路70号

专利法律状态

2023-07-04

授权

状态信息

授权
2023-03-24

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01N21/01；申请日:20221205
2023-03-07

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供了一种光学检测站、清洗及瑕疵检测系统，属于光学检测领域，检测站包括设置在于检测机架上的输送皮带模组、上表面检测模组、划痕检测模组、划痕上料模组、下表面检测模组、下表面上料模组和图像处理器；图形处理器与各检测模组电讯连接并整合所有模组采集的图像判断产品瑕疵情况，并赋予产品带有瑕疵情况的编码；本申请的光学检测站集成了上表面检测、下表面检测和划痕检测，综合判定产品瑕疵情况，保证了检测效率和质量，工作稳定，便于在3C、半导体等涉及玻璃等板面检测领域应用。

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