毫米波太赫兹成像设备及物体识别分类方法

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专利状态

毫米波太赫兹成像设备及物体识别分类方法

有效

专利申请进度

申请

2018-12-29

申请公布

2019-03-15

授权

2023-09-05

预估到期

2038-12-29

专利基础信息

申请号	CN201811654173.X	申请日	2018-12-29
申请公布号	CN109471194A	申请公布日	2019-03-15
授权公布号	CN109471194B	授权公告日	2023-09-05
分类号	G01V8/00;G01V8/20
分类	测量；测试;
申请人名称	同方威视技术股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利法律状态

2023-09-05

授权

状态信息

授权
2019-04-09

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G01V8/00；申请日:20181229
2019-03-15

公布

状态信息

公布

摘要

一种用于对被检对象进行安全检查的毫米波太赫兹成像设备，其包括聚焦透镜，微极化片阵列、探测器阵列和图形处理装置，其中所述聚焦透镜设置在被检对象和所述微极化片阵列之间，且被构造为将被检对象自发辐射或反射回来的毫米波太赫兹波聚焦在所述探测器阵列上；所述微极化片阵列设置在所述探测器阵列的朝向所述聚焦透镜的一侧且设置为靠近所述探测器阵列；所述探测器阵列设置在所述聚焦透镜的焦平面上，且被构造为将透过所述微极化片阵列的毫米波太赫兹波转化为被检对象的极化图像；以及所述图形处理装置设置于所述探测器阵列的远离所述微极化片阵列的一侧，且被构造为处理所述极化图像以对被检对象进行识别分类。

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