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专利状态
探测装置及扫描成像设备
有效
专利申请进度
申请
2017-10-25
申请公布
2018-03-16
授权
2024-03-01
预估到期
2037-10-25
专利基础信息
申请号
CN201711014616.4
申请日
2017-10-25
申请公布号
CN107807138A
申请公布日
2018-03-16
授权公布号
CN107807138B
授权公告日
2024-03-01
分类号
G01N23/00
分类
测量;测试;
申请人名称
同方威视技术股份有限公司
申请人地址
北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
专利法律状态
2024-03-01
授权
状态信息
授权
2018-04-10
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G01N23/00;申请日:20171025
2018-03-16
公布
状态信息
公布
摘要
本发明涉及一种探测装置及扫描成像设备。探测装置包括:支座,具有相对设置的支承面以及弧形基面;支撑部件,设置于弧形基面,支撑部件与支座可拆卸连接,支撑部件具有朝向支座的配合面以及背向支座的定位面,配合面与弧形基面彼此形状匹配;探测器组件,设置于定位面,支撑部件设置于支座与探测器组件之间,探测器组件与支撑部件可拆卸连接,探测器组件包括多个探测器;多个探测器围绕弧形基面的轴线均匀分布。本发明实施例探测装置,包括分体结构的支座和支撑部件,能够在保证定位面满足加工精度要求的前提下,能够降低支座和支撑部件的加工制造难度,节约加工成本。
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