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专利状态
一种用于太阳能电池硅片的磷扩散控制方法
有效
专利申请进度
申请
2011-11-08
申请公布
2013-05-08
授权
2016-04-13
预估到期
2031-11-08
专利基础信息
申请号
CN201110350607.9
申请日
2011-11-08
申请公布号
CN103094410A
申请公布日
2013-05-08
授权公布号
CN103094410B
授权公告日
2016-04-13
分类号
H01L31/18
分类
基本电气元件;
申请人名称
中建材浚鑫科技有限公司
申请人地址
江苏省无锡市江阴市申港镇镇澄路1011号
专利法律状态
2019-07-16
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
状态信息
专利权人的姓名或者名称、地址的变更;IPC(主分类):H01L31/18;变更事项:专利权人;变更前:中建材浚鑫科技股份有限公司;变更后:中建材浚鑫科技有限公司;变更事项:地址;变更前:214443 江苏省无锡市江阴市申港镇镇澄路1011号;变更后:214443 江苏省无锡市江阴市申港镇镇澄路1011号
2016-04-13
授权
状态信息
授权
2014-03-19
著录事项变更
状态信息
著录事项变更;IPC(主分类):H01L31/18;变更事项:申请人;变更前:浚鑫科技股份有限公司;变更后:中建材浚鑫科技股份有限公司;变更事项:地址;变更前:214443 江苏省无锡市江阴市申港镇镇澄路1011号;变更后:214443 江苏省无锡市江阴市申港镇镇澄路1011号
2013-06-12
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):H01L31/18;申请日:20111108
2013-05-08
公布
状态信息
公布
摘要
本发明实施例公开了一种用于太阳能电池硅片的磷扩散控制方法,将硅片装片后推进加工炉,往加工炉内通入氧气并升温,硅片在高温下氧化生成二氧化硅保护层,再对加工炉降温直到五氧化二磷可沉积的温度,通入三氯氧磷、氧气和氮气,三氯氧磷分解生成的五氧化二磷沉积在硅片表面,与硅片发生反应生成磷,然后磷向硅片体内扩散,最后通入氧气再升高温度,使得三氯氧磷能够充分反应,并向硅片体内扩散形成结深的PN结,该方法主要通过对硅片进行高温氧化和低温沉积,从而有效降低硅片的硅格损伤,提高硅片表面少子的寿命,改善形成的PN结的均匀性。
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