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专利状态
一种链式碱抛系统
有效
专利申请进度
申请
2021-09-08
授权
2022-05-10
预估到期
2031-09-08
专利基础信息
申请号 CN202122167620.2 申请日 2021-09-08
授权公布号 CN216488101U 授权公告日 2022-05-10
分类号 H01L31/18;H01L21/67;H01L21/677
分类 基本电气元件;
申请人名称 广东爱旭科技有限公司
申请人地址 广东省佛山市三水区乐平镇齐力大道南3号
专利法律状态
  • 2022-05-10
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开了一种链式碱抛系统,用于抛光制绒后的硅片,包括:用于在制绒后的硅片的正面形成水膜的喷淋单元;用于去除制绒后的硅片的背面及四周的磷硅玻璃的第一酸洗单元;用于清洗第一酸洗单元酸洗后的硅片的第一水洗单元;用于对第一水洗单元水洗后的硅片的背面进行碱抛光的碱抛单元;用于清洗碱抛光后的硅片的第二水洗单元;用于去除第二水洗单元清洗后的硅片的正面的磷硅玻璃的第二酸洗单元;和用于清洗第二酸洗单元酸洗后的硅片的第三水洗单元;其中,所述喷淋单元、第一酸洗单元、第一水洗单元、碱抛单元、第二水洗单元、第二酸洗单元、第三水洗单元依次相连接。本实用新型采用链式碱抛,污染小,且不损伤正面P‑N结。