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专利状态
一种-70℃~+100℃红外超宽温消热差光学系统
有效
专利申请进度
申请
2021-10-22
申请公布
2022-02-25
授权
2023-12-12
预估到期
2041-10-22
专利基础信息
申请号
CN202111233613.6
申请日
2021-10-22
申请公布号
CN114089513A
申请公布日
2022-02-25
授权公布号
CN114089513B
授权公告日
2023-12-12
分类号
G02B13/14;G02B13/18;G02B7/02;G01J5/48
分类
光学;
申请人名称
浙江大立科技股份有限公司
申请人地址
浙江省杭州市滨江区滨康路639号
专利法律状态
2023-12-12
授权
状态信息
授权
2022-02-25
公布
状态信息
公布
摘要
本发明公开了一种‑70℃~+100℃红外超宽温消热差光学系统,包括:第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、杜瓦窗口和孔径光阑;第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、杜瓦窗口和孔径光阑按照从物方到像方的顺序依次设置;来自物方的光束依次经过第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、杜瓦窗口和孔径光阑后,在像面上成像。本发明所述的光学系统,在‑70℃~+100℃超宽温度范围之间,系统无需调焦,像质保持理想稳定,实现了红外光学系统在宽温度范围内消热差的目标,解决了现有系统存在的不能在宽温度范围内保持成像质量稳定清晰的问题。
更多专利
1
一种-70℃~+100℃红外超宽温消热差光学系统
2
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3
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14
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15
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16
红外成像设备
17
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18
微桥结构红外探测器及其制造方法
19
红外镜头光栅式预置位调焦机构
20
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