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专利状态
一种地高辛气雾剂及其制备方法和应用
有效
专利申请进度
申请
2018-10-31
申请公布
2020-05-08
授权
2023-01-20
预估到期
2038-10-31
专利基础信息
申请号 CN201811288487.2 申请日 2018-10-31
申请公布号 CN111110632A 申请公布日 2020-05-08
授权公布号 CN111110632B 授权公告日 2023-01-20
分类号 A61K9/12;A61K9/72;A61K31/7048;A61K47/06;A61P9/04;A61P9/06
分类 医学或兽医学;卫生学;
申请人名称 上海上药信谊药厂有限公司
申请人地址 上海市浦东新区(上海)自由贸易试验区新金桥路905号
专利法律状态
  • 2023-01-20
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-05-08
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供了一种地高辛气雾剂及其制备方法和应用。该地高辛气雾剂包括以下组分:以质量百分比计,地高辛颗粒0.15‑0.22%,抛射剂99.78‑99.85%;地高辛颗粒的粒径D50为1‑4微米。本发明的地高辛气雾剂可通过呼吸道给药以实现药物递送,且吸收好、生物利用度高、起效速度高。