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专利状态
一种低介电聚酰亚胺薄膜及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2021-11-17
申请公布
2022-02-25
授权
2024-02-06
预估到期
2041-11-17
专利基础信息
申请号
CN202111364531.5
申请日
2021-11-17
申请公布号
CN114085398A
申请公布日
2022-02-25
授权公布号
CN114085398B
授权公告日
2024-02-06
分类号
C08J5/18;C08J9/26;C08L79/08
分类
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物;
申请人名称
安徽国风新材料股份有限公司
申请人地址
安徽省合肥市高新区铭传路1000号
专利法律状态
2024-02-06
授权
状态信息
授权
2024-01-26
著录事项变更
状态信息
著录事项变更;IPC(主分类):C08J5/18;变更事项:申请人;变更前:安徽国风塑业股份有限公司;变更后:安徽国风新材料股份有限公司;变更事项:地址;变更前:230000 安徽省合肥市高新区铭传路1000号;变更后:230000 安徽省合肥市高新区铭传路1000号
2022-03-15
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):C08J5/18;申请日:20211117
2022-02-25
公布
状态信息
公布
摘要
本发明公开了一种低介电聚酰亚胺薄膜的制备方法,包括:将PEG/聚酰胺酸混合溶液流延成膜,得到自支撑膜,然后将所述自支撑膜经过热亚胺化和双向拉伸,即得。本发明制得的聚酰亚胺薄膜具有高强度、高耐折、高耐温性能,可以长期使用不被损坏,有利于保持信号的传输稳定性,节约成本。
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