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专利状态
一种高强度低介电聚酰亚胺薄膜及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2021-12-28
申请公布
2022-05-13
授权
2023-09-22
预估到期
2041-12-28
专利基础信息
申请号 CN202111632402.X 申请日 2021-12-28
申请公布号 CN114479456A 申请公布日 2022-05-13
授权公布号 CN114479456B 授权公告日 2023-09-22
分类号 C08L79/08;C08L61/22;C08J5/18;C08G12/04;C08G73/10
分类 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物;
申请人名称 安徽国风新材料股份有限公司
申请人地址 安徽省合肥市高新区铭传路1000号
专利法律状态
  • 2023-09-22
    授权
    状态信息
    授权
  • 2023-09-15
    著录事项变更
    状态信息
    著录事项变更;IPC(主分类):C08L79/08;变更事项:申请人;变更前:安徽国风塑业股份有限公司;变更后:安徽国风新材料股份有限公司;变更事项:地址;变更前:230000 安徽省合肥市高新区铭传路1000号;变更后:230000 安徽省合肥市高新区铭传路1000号
  • 2022-05-31
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C08L79/08;申请日:20211228
  • 2022-05-13
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种高强度低介电聚酰亚胺薄膜,是将含纳米COFs材料的聚酰胺酸溶液经过流延成膜、热亚胺化和双向拉伸得到;其中纳米COFs材料是以化合物C、2,5‑二乙氧基苯‑1,4‑二(甲酰肼)和均苯三甲醛为原料,在溶剂中经过缩聚反应得到。本发明还公开了上述高强度低介电聚酰亚胺薄膜的制备方法。本发明的聚酰亚胺薄膜具有介电常数低、力学性能好、玻璃化转变温度和热稳定性高的优点,可应用于高频通信的电子设备中。