一种痕量气体传感器光路系统及气室

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专利状态

一种痕量气体传感器光路系统及气室

有效

专利申请进度

申请

2014-12-24

授权

2015-04-29

预估到期

2024-12-24

专利基础信息

申请号	CN201420832104.4	申请日	2014-12-24
授权公布号	CN204302180U	授权公告日	2015-04-29
分类号	G01N21/31;G01N21/01
分类	测量；测试;
申请人名称	光力科技股份有限公司
申请人地址	河南省郑州市高新技术产业开发区长椿路10号

专利法律状态

2017-11-10

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G01N21/31；变更事项:专利权人；变更前:郑州光力科技股份有限公司；变更后:光力科技股份有限公司；变更事项:地址；变更前:450001 河南省郑州市高新技术产业开发区长椿路10号；变更后:450001 河南省郑州市高新技术产业开发区长椿路10号
2015-04-29

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种痕量气体传感器光路系统及气室，所述光路系统包括入射光纤准直器、出射光纤准直器、前反射镜和后反射镜，前反射镜和后反射镜均为凹球面反射镜且凹球面相对设置；前反射镜的镜面上设有平行的入射通孔和出射通孔；入射光纤准直器、出射光纤准直器分别与入射通孔、出射通孔同轴且设置在前反射镜远离后反射镜的外侧，用于使入射光纤准直器发射的光束通过前反射镜上的入射通孔射向后反射镜，在前后反射镜之间经数次反射后，通过前反射镜上的出射通孔经出射光纤准直器射出。本实用新型的光路系统，光束在前后反射镜之间多次反射，在有限空间内达到非常大的吸收光程，适用于结构紧凑、精确探测痕量气体的光纤气体传感器。

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